A magyar pavilon alkotói a TechTeán

A Moholy-Nagy Művészeti Egyetem idén is folytatja a TechTea sorozatot. Szeptember 22-én a shanghai EXPO magyar pavilonjának alkotóival, Domokos Gábor és Lévai Tamás építészekkel, Nagy Ágoston interakció tervezővel és Samu Bence képzőművésszel beszélget Ruttkay Zsófia – egy csésze tea mellett. A TechTeán az alkalmazott művészetek, a természet- és társadalomtudományok, valamint Read more…